三星蚀刻工艺配方泄露泛林韩国多次违规获取机密文件

11月9日，据财闻海外资讯援引THE ELEC报道，经确认，三星电子半导体蚀刻工艺配方泄露至美国设备厂商泛林的韩国分支机构。

泛林向三星供应蚀刻、沉积等设备，按约定仅可在设备性能优化、维护保养的限定范围内，由泛林韩国向三星申请获取部分数据。然而，三星明确禁止对外流出的工艺配方文件被单独交付给了泛林韩国。

三星电子于今年下半年察觉该事件，调查显示因泛林韩国不当申请导致的超许可范围资料外泄已多次发生。

工艺配方承载半导体厂商工艺诀窍，属核心技术文件。

相关人士表示，三星总部已将此事定性为重大技术泄露事件并高度重视。市场有观点认为，近期泛林韩国代表理事的人事更迭与本次泄密事件存在关联。本月6日泛林韩国宣布任命金泰元为新任代表理事，前代表理事朴俊弘卸任。

据悉，针对问询，三星电子与泛林韩国均未作出回复。