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- 中国发明专利交底书撰写与软著申请材料准备工具。当用户需要撰写专利、写专利交底书、申请软件著作权、准备软著材料、提取技术发明点、撰写权利要求书、生成专利附图文档时使用此 skill。触发词：专利、专利撰写、专利交底书、发明点、权利要求、软著、软件著作权、著作权申请、软著材料、鉴别材料、申请材料清单。
中国专利交底书撰写与软著申请助手
概述
本 skill 提供两大核心能力：
- 发明专利交底书撰写：从技术材料中提炼发明点，生成符合中国专利局要求的完整交底书文档
- 软件著作权申请材料准备：整理软著申请所需的全套材料，生成符合格式要求的鉴别材料
工作流程
流程一：专利交底书撰写
当用户请求撰写专利时，按以下步骤执行：
Step 1：收集技术材料
向用户收集以下信息（若用户已提供则跳过询问）：
- 软件名称及版本
- 核心功能模块描述
- 技术实现方案（算法、架构、交互逻辑等）
- 系统截图或 UI 界面（用于附图）
- 开发语言、运行环境等基本信息
Step 2：提炼技术发明点
从用户提供的技术材料中，识别并提炼 2-4 个核心技术发明点。判断标准：
- 是否解决了现有技术中的技术问题
- 是否具有新颖性和创造性
- 是否可以通过"方法步骤"来描述
常见发明点模式：
| 模式 | 示例 |
|---|---|
| 算法创新 | 基于XX参数的XX缩放/映射/优化方法 |
| 交互创新 | 多维数据联动的可视化交互方案 |
| 架构创新 | 异步多线程的XX数据归档架构 |
| 系统集成 | 软硬件协同的XX控制与监控系统 |
Step 3：撰写交底书
生成标准的发明专利交底书 docx 文件，包含以下章节：
| 章节 | 内容要求 |
|---|---|
| 发明名称 | "一种基于[核心技术]的[应用场景][方法/系统]" 格式 |
| 技术领域 | 一段话描述所属技术领域 |
| 背景技术 | 指出 2-4 项现有技术缺陷，为发明点铺垫 |
| 发明内容 | 技术方案（分步骤 S1/S2/...）+ 有益效果（3-5 项） |
| 权利要求书 | 1 项独立权利要求（方法）+ 多项从属权利要求 + 1 项系统独立权利要求 |
| 说明书附图说明 | 每张图的简要文字说明 |
| 具体实施方式 | 结合附图，展开每个技术方案的详细实现 |
文档格式要求：
- 使用 docx-js 生成 docx 文件
- 标题使用 Heading1，副标题使用 Heading2
- 权利要求书每条独立一段
- 附图整合到文档末尾，居中显示，配图号标题
Step 4：整合附图（如有截图）
若用户提供了系统截图（docx/png 格式）：
- 从 docx 中提取 PNG 图片（使用 docx skill 的 unpack 脚本）
- 按业务流程顺序排列截图
- 在交底书的附图章节和具体实施方式中引用每张图
流程二：软著申请材料准备
当用户请求准备软著申请材料时，按以下步骤执行：
Step 1：确认申请主体信息
确认以下基本信息（用于申请表填写）：
- 软件全称、简称、版本号
- 申请人类型（企业/个人）
- 开发完成日期
- 编程语言、软件环境、硬件环境
Step 2：生成文档鉴别材料
生成符合中国版权保护中心要求的 软件设计说明书 docx 文件：
格式规范（必须遵守）：
- 页眉：标注软件全称 + 版本号（与申请表一致）
- 页码：右上角，从第1页开始编号
- 每页不少于 30 行
文档结构（10章）：
- 系统概述
- 系统总体架构
- 运行环境
- 功能模块一：[模块名]
- 功能模块二：[模块名]
- ...（按实际模块数量）
- 核心技术实现
- 数据库设计（如有）
- 用户操作流程
- 系统界面展示（配截图）
Step 3：输出材料准备清单
生成一份 Checklist 文件，标注：
- ✅ 已准备好的材料及文件路径
- ⚠️ 需要用户自行准备的材料及操作指引
- 📅 建议的时间规划
用户需自行准备的材料：
| 材料 | 说明 |
|---|---|
| 版权中心账号 + 实名认证 | ccopyright.com 注册，1-3天 |
| 身份证明文件 | 企业→营业执照；个人→身份证 |
| 申请表在线填报 | 用速查表填写→打印→盖公章→扫描 |
| 源程序鉴别材料 | 代码前30页+后30页，每页≥50行 |
流程三：全流程一站式服务
当用户同时需要专利和软著时，执行流程一 + 流程二，并整合输出：
- 先完成软著材料（从软著功能说明中提炼技术信息）
- 基于同一份技术材料生成专利交底书
- 确保专利和软著中的技术描述保持一致
关键参考信息
软著申请费用
完全免费（2017年4月1日起停征所有费用）
软著办理时限
- 审查：自受理日起 60 日内
- 补正：收到通知后 30 日内
- 总计预估：30-75 天
专利交底书撰写要点
- 发明名称应体现核心技术特征
- 背景技术中指出的缺陷应与发明方案一一对应
- 独立权利要求应涵盖所有必要技术特征
- 从属权利要求应进一步限定具体实现方式
- 具体实施方式应足够详细，使本领域技术人员能够实现
中国版权保护中心联系方式
- 地址：北京市丰台区汽车博物馆西路9号院6号楼4层
- 电话：010-61090099（业务咨询）
- 官网：https://www.ccopyright.com/