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设备交付周期制约高端ABF载板扩产

更新时间 2026-09-21来源 半导体产业纵横正文 1342字阅读约 5分钟2 张图片

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未来1–2年内,设备交付周期与供货能力,将成为制约新增高端ABF载板产能扩张的最核心变量。

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随着AI加速器与服务器CPU性能持续提升,芯片不仅在计算核心数量、I/O通道上不断增加,集成复杂度也同步走高。高带宽内存(HBM)、高速SerDes以及芯粒(chiplet)设计的集成度不断提高,让封装内部的信号传输、供电以及器件互连变得复杂得多,推动高端IC载板朝着更大面积、更多层数的方向发展。

这一趋势大幅增加了单块载板所需的处理资源与制造工作量。因此,高端载板未来的产能,不仅取决于上游原材料供需缺口的收窄,还需要有效制造产能同步扩张。此外,随着AI和高性能计算(HPC)芯片出货量增长,高端载板供给必须持续扩容,会进一步加剧这类工艺瓶颈。

单芯片对应的载板加工面积三年将增长99%

以Nvidia的AI加速器为例:随着单GPU性能、内存带宽以及封装集成度提升,载板规格从2020年Ampere架构的3000平方毫米、10–12层,发展到2026年Rubin架构的9500平方毫米、20层以上。

AMD下一代 “Venice” 服务器CPU载板也呈现相同趋势,面积扩大至7200平方毫米,层数达到18层以上。纵观各类计算平台的产品路线图不难发现,更大尺寸、更多层数已经不再是个别产品孤立的规格升级,而是高端AI加速器和服务器CPU共同的结构性发展趋势。

DIGITIMES Intelligence分析载板规格升级对制造资源需求带来的影响并估算:单块高端载板的等效加工面积(载板面积乘以层数计算得出),将从2025年的77868平方毫米增长至2028年的154917平方毫米。也就是说,即便不考虑出货量增长,仅载板尺寸和层数增加这一项,就会提升厂商每颗芯片需要处理的物理面积与工序数量。由此,等效载板加工面积三年内几乎翻倍,仅规格升级本身就会带来制造工作量的大幅增加。

加工负荷上升,核心设备成为产能落地的关键变量

载板向大尺寸、多层结构演进,持续推高单颗芯片对应的等效加工面积与生产复杂度。一方面,单块载板尺寸变大后,标准面板或载盘上可放置的载板数量减少,设备单次加工的有效良品产出下降;更大的外形尺寸也加大了翘曲度、平整度以及电镀均匀性的管控难度,难以形成有效可用产能。另一方面,多层ABF载板需要重复多轮制造工序,压合、电镀、曝光、蚀刻等工艺要反复执行,延长了单块载板在专用设备上的驻留时间。厂商若要维持同等出货量,就必须按比例新增设备。

DIGITIMES Intelligence指出,高端ABF载板扩产带来的供给压力已经从原材料蔓延到核心工艺设备。据业内消息,不同设备品类的紧缺程度各不相同,真空压合设备以及部分湿法工艺设备供需最为紧张。举例来说,SAP湿法工艺设备的订单能见度目前已经排到2027年,部分订单洽谈周期甚至延伸至2028年。与此同时,高端ABF载板真空压合设备的交付时间已经推迟到2027年末。

多家头部中国台湾厂商已经提前下单锁定设备产能。对于没有提前锁定设备的竞争对手而言,未来1–2年内,设备交付周期与供货能力,将成为制约新增高端ABF载板产能扩张的最核心变量。

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