玻纳刻推出全世代面板曝光量测设备

新型显示是我国电子信息产业具备全球竞争优势的赛道，但面板阵列段曝光、精密量测等核心工艺装备长期被海外厂商垄断，成为产业链自主可控的突出短板。2025年7月，一支源自国内头部光刻装备企业的资深技术团队分拆成立上海玻纳刻科技有限公司（AGL，以下简称玻纳刻）。在2026 DIC EXPO上，玻纳刻展出了覆盖G2.5至G8.6全世代的曝光、量测及张网等配套设备。该系列产品已在国内多家头部面板厂实现量产落地，为高端显示装备提供了一条经过产线验证的本土解决方案路径。

从一台曝光机开始，补上产业链最短的那块板

玻纳刻进入的是一条门槛极高的赛道。曝光机直接决定面板像素精度与产品良率，G6及以上大世代投影曝光机由于需要多枚光学镜片拼接才能覆盖大幅面基板，对系统集成、畸变控制和运动平台同步精度要求极为苛刻，全球市场长期被佳能、尼康垄断。量测设备作为面板产线的“标尺”，尤其长/短寸量测设备作为曝光工艺的一把高精度尺子，供应商情况类似，特别是G8.6代长短寸量测设备此前在国内产线中几乎没有国产设备的身影。

缺口有多大？2025年国内新建G6-G8.6代产线中，曝光设备国产配套比例很低，且大多集中于中小世代机型，高端大尺寸设备供给严重不足；Array段精密量测设备国产化率同样不足，目前占比还不到5%。这种失衡不仅意味着采购成本高昂，更带来交付周期不可控、运维受制于人的供应链风险。

玻纳刻投影扫描曝光机设备

玻纳刻并非从零起步。公司核心团队全部来自国内头部投影光刻机企业，拥有十余年高端装备研发与产业化落地经验，兼具扎实的技术底蕴与前沿的创新能力。核心团队完整经历了从G4.5小Mask曝光机进口替代（2015年），到G6小Mask曝光机量产（2018年）、再到G6大Mask曝光机技术攻克（2022年）的全过程。2025年7月完成分拆后，这支200余人的团队聚焦玻璃基微纳光刻专用装备，带着400余项专利和全系列设备100%自主知识产权的底子独立运营。

数年深耕的技术能力最终落在产品上。G4.5小Mask曝光机业内首创双曝光系统，具备较低的运营和维护费用；G6大Mask投影扫描曝光机采用Ⅱ代多物镜拼接技术，分辨率可达1.2μm；长/短寸量测设备则填补了国内空白，自研的多光束干涉仪闭环补偿实现了更高精度的控制，其核心部件国产化率超90%；金属掩膜版张网及量测设备具有优于3μm的张网精度和高焊接效率，灵活应对不同产品的工艺需求。

截至目前，企业已有10+台曝光设备和50+台量测设备在产线运行，客户覆盖京东方、TCL华星、维信诺、天马、惠科等国内主要面板厂商。

从“可用”到“替代”，机会与功课都还在路上

国产装备入场带来的改变是实实在在的。对比进口方案，本土设备交付周期缩短20%以上，运维和备件综合成本下降约20%，而且可以根据国内面板企业的具体工艺路线做定制化开发——这是海外品牌很难提供的服务深度。

产品应用边界也在拓宽。除了常规的手机、电视，玻纳刻的设备已用于45英寸8K智能座舱车载屏、Micro OLED近眼显示（1500+PPI）、4K/8K医疗手术显示器、低功耗电子纸等差异化产品，说明国产装备正在从“能用”走向“好用”。

谈及下一步发展，玻纳刻相关负责人表示，企业将持续加大Micro-LED、Micro OLED、AR/VR等领域专用光刻设备研发投入，针对下一代近眼显示、超大尺寸商用显示需求优化设备分辨率与生产效率；同时，推进G8.6代曝光设备研发，匹配国内新建高世代产线规划。

产业链协同层面，公司将持续深化与国内面板、光学零部件、精密传动企业的联合研发，推动设备核心零部件国产化配套验证，降低整机对外依赖；依托现有客户基础，持续开展设备工艺联合优化，提升设备性能并拓宽工艺适应性。

产业政策层面，随着 “十五五” 规划将新型显示列为战略性新兴支柱产业，国内各地持续加大对显示核心装备攻关扶持力度，国产高端曝光、量测设备迎来规模化替代窗口期。以玻纳刻为代表的本土光刻装备企业，凭借成熟技术积淀与量产验证基础，有望持续释放本地化发展动能，助力我国新型显示产业链从 “面板制造大国”向“装备自主可控强国” 稳步迈进。